Tapahtumat

Kielitaito puntarissa: haasteita ja uusia suuntia
Assessment of Language Proficiency: Challenges and New Directions

perjantaina 14.12.2012 klo 9.00–12.30 Porthanian (Yliopistonkatu 3) salissa 673.

TAITO – Vieraiden kielten taitotasot on Helsingin yliopiston humanistisen tiedekunnan viiden kieliaineen hanke, jossa yhdistyvät kielentutkimus, kielitaidon arvioinnin tutkimus ja vieraan kielen oppimisen tutkimus. Seminaariin on saatu rahoitusta tiedekunnan Tulevaisuusrahastosta.

Ohjelma:

9.00–9.15       Seminaarin avaus ja TAITO-hankkeen
                          esittely (Marjo Vesalainen)

9.15–9.45       Ullamaija Fiilin, Jaana Jokinen ja Johanna
                          Vaattovaara (Helsingin yliopisto):
                          Tracking the Development of the
                          Language Skills of University Students:
                          Preliminary Findings from a Bilingual
                          Degree Project

9.45–10.45     Ari Huhta (Jyväskylän yliopisto):
                          How to Study the Development of
                          Language Skills – Methodological
                          Considerations in Designing Studies
                          and in Analysing Data                    

10.45–11.15   Kahvitauko

11.15–12.15   Claudia Harsch (University of Warwick):
                          Writing Assessment and the Common
                          European Framework of Reference

12.15–12.30   Tilaisuuden lopetus

Seminaariin ovat tervetulleita kaikki aiheesta kiinnostuneet tutkijat, opettajat ja opiskelijat. Kahvitarjoilun vuoksi pyydämme ennakkoilmoittautumista 10.12. mennessä osoitteessa:

https://elomake.helsinki.fi/lomakkeet/38528/lomake.html

Jatkamme iltapäivällä tutkimus- ja hankeyhteistyön suunnittelua klo 14.00–15.30 Metsätalon salissa 28 (Unioninkatu 40). Seminaarin teemaan liittyvästä tutkimusyhteistyöstä kiinnostuneet ovat lämpimästi tervetulleita myös tähän osuuteen.

Lisätietoja tilaisuudesta antaa Maria Paloheimo (maria.paloheimo@helsinki.fi).

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *